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氧氣充入浮選機中會使礦漿電位提高
       通過控制浮選體系和濕法冶金體系的電位條件， 調控礦物浮選分離行為， 催化礦物的溶解過程， 有希望發展一種以礦漿電位為控制參數的硫化礦電位調控浮選技術與礦漿電解技術及礦物生物提取技術，這些反應都會造成磨礦過程的還原性。
        因此， 磨礦過程的礦漿電位比浮選機中的電位要低得多， 除了磨礦中鐵球的還原性之外， 浮選是一個不斷充氣的過程， 氧氣充入浮選機中會使礦漿電位提高。如果將捕收劑、 重錘破抑制劑及石灰加入磨礦機中與硫化礦一同磨剝， 硫化礦與捕收劑作用時的礦漿電位環境會有利于硫化礦物之間的分離。
         下面以方鉛礦、 黃鐵礦及閃鋅礦為例來說明這個問題。在磨礦過程中， 方鉛礦、 黃鐵礦、 閃鋅礦及磨球之間會發生電化學相互作用和電催化作用。所有的硫化礦物中， 黃鐵礦具有最高的表面靜電位 ， 固體的越高其電化學活性越低。按電化學活性的大小來分類： 黃鐵礦 閃鋅礦 方鉛礦鐵。 [詳細介紹]